德州洁净厂房设计施工推荐 鲁鑫设备公司

洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。它可以大大地缩小机房的面积，水冷柜机可以根据具体的情况布置于较小机房内或净化车间内，增压风柜也可以布置于机房内或吊在机房内或在夹层内。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产合适湿度范围为35—45%。

4、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点

A、无尘车间洁净度:LCD制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间，其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间，其洁净度一般为万级或十万级。

B、室内空气参数要求 ：(1)温湿度要求：温度一般为24 2℃，相对湿度为55 5%。(2)新风量大。由于这类车间内，人员比较多，可以根据以下数值应取下列的高值：非单向流洁净室总送风量的10-30%;补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量;保证室内每人每小时的新鲜 空气量≥40m3/h。化学光催化法工作原理：空气通过光催化空气净化装置时，光触媒在光的照射下自身不起变化，却可以促进化学反应的物质空气中的***物质如甲醛等在光催化的作用下发生降解，生成***无害的物质，而空气中的***也被紫外光除掉，空气因此得到净化。(3)送风量大。为了满足洁净室内的洁净度及热湿平衡，需要较大的送风量，就300平方米的车间，吊顶高度为2.5米的，如果是万级，送风量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送风量(换气次数，是≥25次/h);如果是十万级，送风量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数，是≥15次/h)。

4、自控装置保证全程调节

目前，有的生产厂家采用手动方式进行控制风量和风压的调节，但由于控制风量和风压的调节阀均在技术隔层，而且吊顶也都是彩钢板的软吊顶，基本上都是在安装调试时调好，此后，大都没再调节过，实际上也无法调节。为确保洁净厂房的正常生产和工作，应设置一套较完整的自控装置，实现以下功能：洁净室空气洁净度、温湿度、压差监控、风阀调节；高纯气体、纯水和循环冷却水的温度、压力、流量的检测；气体纯度、纯水水质的监测等。光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生***学、***、食品制造等行业不可或缺的重要设施。

净化空调系统的空气过滤器随运行时间的增加，阻力增大，为保持风量则需调节系统中的风阀。在统调试时系统启动时，为使风机空载启动，则需将风机出口处风阀关闭，风机启动后，因风阀上承受很压力，开启十分困难。因此这种情况下不仅有流层之间因紊流流动而发生的掺混，而且还有全室范围内的大的回流、旋涡所发生的掺混。采用空气过滤器前后压差的变化控制风机的变频调速装置后，送风量的调节会变十分容易，送风压力稳定。

这些监控装置可设计成单个系统的测量，控制系统，也可设计成集散式计算机控制和管理系统。净化空调系统在风机停转无风或超温时，电加热器会继续送电加热，造成设备损坏甚至发生火灾，为避免这种情况的出现，应设置无风以及超温断电的保护。